ДИПЛОМНІ КУРСОВІ РЕФЕРАТИ


ИЦ OSVITA-PLAZA

Реферати статті публікації

Пошук по сайту

 

Пошук по сайту

Головна » Реферати та статті » Фізика » Теоретична фізика у 10 томах

Диэлектрическая проницаемость вырожденной бесстолкновительной плазмы
При вычислении в § 29, 31 диэлектрической проницаемости
бесстолкновительной плазмы полностью пренебрегалось всеми
квантовыми эффектами. Полученные таким образом результаты
ограничены, прежде всего, по температуре условием отсутствия
вырождения; для электронов это условие гласит:
K2N2/S
D0.1)
т
2
где ер = —.Vf — граничный импульс распределения Ферми при

Т = 0, связанный с плотностью числа электронов равенством
Зтг2/*3
Кроме того, сама возможность применения к плазме во внеш-
нем поле классического уравнения Больцмана связана с опреде-
ленными условиями, наложенными на волновой вектор к и ча-
стоту uj поля. Характерные расстояния изменения поля (~ 1/fc)
должны быть велики по сравнению с де-бройлевской длиной
волны электронов (Н/р), а связанная с этой неоднородностью
неопределенность импульса (~ Нк) должна быть мала по сравне-
нию с шириной (~ T/v) области размытия теплового распределе-
ния электронов. Для невырожденной плазмы j9 ~ T/v ~ (ттт-ТI/2,
так что оба эти условия совпадают. Для вырожденной плазмы
р ~ pf, v ~ vp = рр/т, но поскольку Т < ?/?, то T/v < р. Таким
образом, достаточно потребовать в обоих случаях
Hkv < Т. D0.2)
Наконец, частота должна удовлетворять условию
Гил) < sF D0.3)
— квант энергии поля должен быть мал по сравнению со сред-
ней энергией электрона (это условие, впрочем, обычно не играет
роли).
Теперь мы рассмотрим диэлектрические свойства плазмы, от-
казавшись от выполнения условий D0.1)—D0.3) для ее электрон-
ной компоненты; ионная же компонента может оставаться невы-
рожденной. Мы будем вычислять электронную часть диэлек-
трической проницаемости. При этом будет по-прежнему пред-
полагаться выполненным условие, обеспечивающее возможность
пренебрежения взаимодействием частиц плазмы:
ё; D0.4)
40 ПРОНИЦАЕМОСТЬ ВЫРОЖДЕННОЙ ПЛАЗМЫ 201
^
1 /3 777-6^
при ? ~ ?/? это условие принимает вид 7Ve ^> , или
/г2
(ср. V, § 80, IX, § 85).
Отказ от условия D0.2) требует применения с самого нача-
ла квантовомеханического уравнения для матрицы плотности.
Поскольку взаимодействием между электронами пренебрегает-
ся, можно писать замкнутое уравнение сразу для одночастичной
матрицы плотности paiG2(t, ri, Г2) (<7i, <T2 - спиновые индексы).
Будем считать распределение электронов независящим от спина;
другими словами, зависимость матрицы плотности от спиновых
индексов отделяется в виде множителя 6а1(Т2, который мы будем
опускать. Независящая от спина матрица плотности /э(?, ri,r2)
удовлетворяет уравнению
Ш^ = (Н1-Щ)р, D0.5)
где Н — гамильтониан электрона во внешнем поле, а индексы 1
или 2 указывают переменные (ri или Г2), на которые действует
оператор (см. III, § 14). Это уравнение заменяет собой класси-
ческую теорему Лиувилля (df/dt = 0) для классической одноча-
стичной функции распределения.
Будем (как и в § 29) вычислять продольную диэлектрическую
проницаемость. Соответственно этому рассматриваем электри-
ческое поле со скалярным потенциалом (p(t, г), так что гамиль-
тониан электрона
Н = - —V2-e^(?,r). D0.6)

Считая поле слабым, полагаем
р = Ро(п - г2) + 5p(t, гь г2), D0.7)
где ро — матрица плотности невозмущенного стационарного и
однородного (но не обязательно равновесного) состояния газа; в
силу его однородности, ро зависит только от разности R = ri— r2.
Матрица плотности po® связана с (невозмущенной) функцией
распределения электронов по импульсам по(р) формулой
по(р) =Яе po(K)e-ip^nd6x, D0.8)
J
где Ме — полное число электронов (см. IX, G,20)). Здесь п(р)
определяется как числа заполнения квантовых состояний элек-
тронов с определенными значениями импульса и проекции спи-
на. Число состояний, приходящихся на элемент импульсного про-
странства d3p и с двумя значениями проекции спина, есть —.
202 БЕССТОЛКНОВИТЕЛЬНАЯ ПЛАЗМА ГЛ. III
Поэтому п(р) связано с использовавшейся ранее функцией рас-
пределения /(р) соотношением
/(р) = MEL. D0.9)
Подставив D0.7) в D0.8) и отбросив члены второго поряд-
ка малости, получим линейное уравнение для малой добавки к
матрице плотности:
L at 2m
= -e[tp(t, ri) - tp(t, r2)]po(ri - r2). D0.10)
Пусть1)
ф,т) = <ршке<кг-" *). D0.11)
Тогда зависимость решения уравнения D0.10) от суммы ri + г 2
(и от времени) можно отделить, положив
др = ехр [гк^±^ - turf] gwk(ri - г2). D0.12)
Подставив это выражение в D0.10), получим уравнение для
.к\2
Теперь можно перейти в этом уравнении к фурье-
разложению по R. Умножив обе его части на ехр (—ipR/H) и
проинтегрировав по с/3ж, получим (с учетом D0.8))
(где е(р) = p2/Bm)), или
- по(р -
Значение матрицы плотности при ri = Г2 = г определя-
г) Гамильтониан D0.6) должен быть эрмитовым, а потому функция (р в
нем (и, следовательно, в уравнении D0.10)) — вещественной. Но после того
как уравнение D0.10) написано, ввиду его линейности можно его решать для
каждой из комплексных монохроматических компонент поля в отдельности.
§ 40 ПРОНИЦАЕМОСТЬ ВЫРОЖДЕННОЙ ПЛАЗМЫ 203
ет плотность числа частиц в системе: N = 2J\T p(t, г, г) (см. IX,
G.19)). Поэтому изменение плотности электронов под влиянием
поля есть
SNe = We6p(t, г, г) = 2Яеег{*г-^ёшъ (R = 0),
или, выразив g-^k(R = 0) через фурье-компоненты,
SNe = 2Яее^~^ Jguk(p)-0-. D0.14)
Соответствующее же изменение плотности зарядов есть —eSNe.
Диэлектрическая проницаемость вычисляется теперь так, как
это было сделано в § 29: исходя из связи плотности заряда с
вектором диэлектрической поляризации (—eSNe = — divP =
= —ikP) пишем
eSNe = ^^ ^±
4тг 4тг
Таким образом, находим следующую формулу для электрон-
ной части продольной диэлектрической проницаемости плазмы
с функцией распределения электронов п(р) (индекс 0 у которой
теперь опускаем):
/ 7ч ., 4тге2 / п(р + fik/2) — п(р — fik/2) 2dsp /лпчг\
еЛшЛ) — 1 = — / ки '—!¦ к— '—!- — D0.15)
V ' ' hk2 J kv-cj-гО Bтт/гK V J
(Ю.Л. Климонтович, В.П. Силин, 1952); обход полюса в инте-
грале определяется, как обычно, правилом Ландау.
В квазиклассическом случае, при выполнении условий D0.2),
D0.3), можно разложить функции п(р =Ь Нк/2) по степеням к.
Тогда
/ , Пк\ ( Пк\ ы дп(р)
пр + — —nip — — « Hk—^-^
V 2 ) V 2 ) dp
и формула D0.15) переходит (с учетом связи D0.9)) в прежнюю
формулу B9.9). Подчеркнем, однако, что распределение п(р) в
этой формуле может относиться к вырожденной плазме.
Применим формулу D0.15) к полностью вырожденной элек-
тронной плазме при Т = 0, когда п(р) = 1 при р < рр и п(р) = 0
при р > pp. Заменив в двух членах в D0.15) переменную инте-
грирования р ± Нк/2 —>• р, получим
-, -±/ю у j х 1 у 2d p
I
hk2 J [cj+-kv + z0 cj_-kv + zOj BтгЛK
P<PF
где ио± = uo =Ь —. Элементарное, хотя и довольно громоздкое
2m
204 БЕССТОЛКНОВИТЕЛЬНАЯ ПЛАЗМА ГЛ. III
интегрирование приводит к результату
^g g(w_)}, D0.16)
Up
gM = —
причем логарифм должен пониматься как \n\u\ — гтг, если его ар-
гумент и < 0; «плазменная частота» Ое определена по-прежнему
как Ое = Dтг7Уее2/?71I/2.
В квазиклассическом пределе, при Нк <С ^f, /io; <C ?f 1M
формула D0.16) приводит к простому выражению, не содержа-
щему Н:
( 0 при ио\
D0.17)
Особый интерес представляет статический случай. При ио = 0
выражение D0.16) как функция к имеет особенность в точке, где
Нк совпадает с диаметром ферми-сферы:
Нк = 2pF- D0.18)
в этой точке аргумент одного из логарифмов обращается в нуль.
Вблизи нее
eri(O,A:) — 1 = ^— fl-fln-1-l , D0.19)
|_ IS I J
Покаж:ем, что наличие этой особенности (ее называют поповской)
приводит к изменению характера экранировки поля зарядов в
плазме, которая становится не экспоненциальной2).
Запишем выражение D0.19) в виде
бг@,?;)=/3-с^1п^ D0.20)
е2
где а = , а постоянная /3 может включать в себя также и
27TJIVF
не имеющий особенности вклад от невырожденной ионной ком-
поненты плазмы.
:) При Т = 0 достаточно этих условий. Дело в том, что предельное значе-
ние е\ при hkvF /sf —>- 0 и Т —>- 0 не зависит от порядка перехода к пределу.
Поэтому соотношение между hkvF и Т несущественно.
2) Физические следствия особенности, возникающей при условии D0.18),
были указаны Коном (W. Kohn, 1959).
§ 40 ПРОНИЦАЕМОСТЬ ВЫРОЖДЕННОЙ ПЛАЗМЫ 205
Фурье-компонента поля, создаваемого покоящимся в плазме
малым точечным зарядом ei, выражается через диэлектриче-
скую проницаемость формулой
=
(см. задачу 1 § 31). Для потенциала же <р(г) как функции рас-
стояния от заряда е\ имеем
оо
tp® = [ ^кегкг-f^ = -V Im / №lkr к dk. D0.22)
у BттK 2тг2г у
При к —>> 0 функция <p(fc) стремится к постоянному преде-
лу и не имеет особенности. Поэтому асимптотическое поведение
интеграла в D0.22) при г —>> оо определяется особенностью этой
функции при й& = 2рр. Вблизи нее
enrti2
Вклад этой области в асимптотическое значение интеграла:
оо
ф) « ^g Im (e2*^/*J), J =
ввиду быстрой сходимости (см. ниже) интегрирование по ? мож-
но распространить от — оо до оо.
Для вычисления интеграла J разделим его на две части —
от — оо до 0 и от 0 до оо — и в каждой из них повернем путь
интегрирования в плоскости комплексной переменной ? до его
совпадения с верхней мнимой полуосью. Положив затем ? = гу,
получим
оо
J = [ e-*PFry/h Г J_ _ ln
J |
= [
J
о
Разность в квадратных скобках сводится к гтг, так что J =
= т ( ) . Окончательно находим
\2pFrJ
Таким образом, потенциал экранированного поля вдали от
заряда осциллирует с амплитудой, спадающей по степенному
206
БЕССТОЛКНОВИТЕЛЬНАЯ ПЛАЗМА
ГЛ. III
закону. Этот результат, полученный для вырожденной плазмы
при Т = 0, остается в силе для малых, но конечных температур
на расстояниях г <С -—^.

Ви переглядаєте статтю (реферат): «Диэлектрическая проницаемость вырожденной бесстолкновительной плазмы» з дисципліни «Теоретична фізика у 10 томах»

Заказать диплом курсовую реферат
Реферати та публікації на інші теми: Аудит Звіту про власний капітал
Інвестиційна стратегія
ІНФОРМАЦІЙНЕ ТА НОРМАТИВНО-ПРАВОВЕ ЗАБЕЗПЕЧЕННЯ СТВОРЕННЯ НАУКОМІ...
Способи залучення капіталу
Аудит формування фінансових результатів


Категорія: Теоретична фізика у 10 томах | Додав: koljan (30.11.2013)
Переглядів: 558 | Рейтинг: 0.0/0
Всього коментарів: 0
Додавати коментарі можуть лише зареєстровані користувачі.
[ Реєстрація | Вхід ]

Онлайн замовлення

Заказать диплом курсовую реферат

Інші проекти




Діяльність здійснюється на основі свідоцтва про держреєстрацію ФОП