ДИПЛОМНІ КУРСОВІ РЕФЕРАТИ


ИЦ OSVITA-PLAZA

Реферати статті публікації

Пошук по сайту

 

Пошук по сайту

Головна » Реферати та статті » Фізика » Фізика твердого тіла

Расщепление основного состояния кристаллическим полем
Из третьего и четвертого столбцов (рис. 4.16) видно, что
донорные атомы фосфора в кремнии существуют с двумя
возможными энергиями основного ls-состояния, разделенными
энергией Ас. Верхние основные состояния действуют точно так
же, как возбужденные состояния с главным квантовым числом
/2>1, давая донору возможность становиться возбужденным,
но не ионизованным. Этот эффект опять приводит к тому, что
при данной температуре величина п0 оказывается меньше, чем
она была бы в отсутствие каких-либо связанных состояний,
кроме одного нижнего. Уравнение (4.36) должно быть теперь
заменено некоторой модификацией уравнения (4.44):
п0 (Na + п0) = fcNc ехр (— Edlk0T) ^ ^
(Nd-Na-no) l + (Pi/ptte)e*P(-A'/*or) + 2 '
где знак суммы в знаменателе правой части означает такое
же суммирование, как в (4.44). Новый член в знаменателе
обусловлен вкладом верхних основных состояний.
Расщепление основного состояния, подобное тому, которое
имеет место для фосфора в кремнии, наблюдается для многих
центров в полупроводниках. На рис. 4.22 показаны
экспериментальные данные для Si — Р. Из кривых на этом рисунке видно,
как верхние основные состояния понижают величину п0 в
широком интервале температур. Этими состояниями можно
пренебречь при очень низких температурах, поскольку в этом случае
почти все электроны «заморожены» на самом нижнем из
возможных связанных состояний. Аналогичным образом и
верхнее и нижнее основные состояния (как и все возбужденные)
оказываются очень слабо заполненными при высоких
температурах, поскольку все связанные состояния в этом случае уже
не играют роли на фоне большого числа ставших доступными
для электронов состояний в зоне проводимости. Это создает
ситуацию истощения, когда n0~(Nd—Na). Соотношения (4.36) и
(4.45) приводят к различающимся результатам для
промежуточных температур, для которых имеется частичное заполнение
4.1. Равновесная статистика электронов
399
fO18
О 5 /О fS 20 2$
7000/Г, К"'
Рис. 4.22. Температурная зависимость концентрации свободных электронов
в частично компенсированном кристалле кремния, легированного фосфором,
по данным Лонга и Майерса [Long D., Myers J.— Phys. Rev, 115, 1119
(1959)]. Кривая 2 обнаруживает соответствие соотношению (4.45) для Nd =
= 6,9- 1020 м-3, ЛГа=3,8-1020 м-3 и ed=0,0435 эВ, Дс=0,010 эВ. Кривая /
вычислена в соответствии с (4.36) для тех же значений Nd, Na и Ed.
верхних ls-состояний за счет состояний зоны проводимости.
Лонг и Майерс13 интерпретировали свои экспериментальные
результаты для /z0, найденные из эффекта Холла (рис. 4.22),
с помощью соотношения (4.45) и смогли определить значение
Дс, которое удовлетворительно согласуется с оптическими
измерениями этой величины 12.
Таким образом, распределение данного числа электронов
между примесными центрами и зоной проводимости может
стать более сложным, если оказываются заметно заполнены
возбужденные состояния центров или если кристаллическое
поле снимает вырождение основных состояний. Аналогичное
расщепление может происходить в сильном магнитном поле или
при анизотропной деформации полупроводника. Для
большинства (но не для всех) полупроводников изотропная деформация
не приводит к сильному изменению структуры примесных
уровней.

Ви переглядаєте статтю (реферат): «Расщепление основного состояния кристаллическим полем» з дисципліни «Фізика твердого тіла»

Заказать диплом курсовую реферат
Реферати та публікації на інші теми: Фонетична транскрипція
МЕТОДИ ПРОГНОСТИКИ
СТАНОВЛЕННЯ ЦЕНТРАЛЬНОГО БАНКУ В УКРАЇНІ
Аудит реалізації доходів і витрат діяльності та формування фінанс...
АКТИВНІ ОПЕРАЦІЇ БАНКІВ


Категорія: Фізика твердого тіла | Додав: koljan (05.12.2013)
Переглядів: 433 | Рейтинг: 0.0/0
Всього коментарів: 0
Додавати коментарі можуть лише зареєстровані користувачі.
[ Реєстрація | Вхід ]

Онлайн замовлення

Заказать диплом курсовую реферат

Інші проекти




Діяльність здійснюється на основі свідоцтва про держреєстрацію ФОП