ДИПЛОМНІ КУРСОВІ РЕФЕРАТИ


ИЦ OSVITA-PLAZA

Реферати статті публікації

Пошук по сайту

 

Пошук по сайту

Головна » Реферати та статті » Фізика » Введення в плазмодінаміку

Стационарные дебаевские слои около диэлектрических поверхностей
Кон-
кретное рассмотрение ДС мы начнем со стационарных ДС около диэлектрических
поверхностей. Точнее, с ДС, которые не пронизываются электрическим током, так
что в стационаре сумма нормальных составляющих ионного и электронного потоков
к поверхности ТТ равна нулю
jin + jen =0. G.3.5)
ДС именно на диэлектриках интересны по ряду причин. В частности, у диэлек-
триков коэффициент вторичной электронной эмиссии (ВЭЭ), как уже отмечалось
в разделе 7.2, существенно выше, чем у металлов, и поэтому здесь легче достигается
критическое значение а = 1. Что касается стационарности, то это наиболее распро-
страненный случай.
Всюду ниже мы ограничимся ДС на плоских гладких поверхностях, т. е. будем
считать, что толщина слоя ho удовлетворяет условиям
5 <С ho <С R.
Здесь 5 — масштаб шероховатости поверхности, a R — ее радиус кривизны.
7.3. Электронные пограничные слои
375
На рисунке 7.3.1 изображена функциональная схема рассматриваемых ДС. Ко-
ординату левой границы ДС обозначим через xq, координату поверхности ТТ будем
считать х = 0. В пределах ДС выделяются три электронных потока: 1 — поток,
идущий от хо, а её потенциал Фо = 0, он порождает поток вторичных электронов —
3; поток 2 — это поток малоэнергичных электронов, которые не достигают стенок,
если
mv
<eUn
Здесь Um[n — отрицательный потенциал в пределах ДС (если он есть).
Более адекватными, чем рис 7.3.1 являются фазовые диаграммы (x,v), изобра-
жённые на рис. 7.3.2. На рис. 7.3.2а представлены траектории при а < 1. В этом
случае поверхность ТТ заряжена отрицательно и часть электронов (II) не достигает
этой поверхности. Штриховая линия разделяет траектории частиц, достигающих
поверхность, от траекторий, не достигающих стенки. На рисунке 7.3.26 изображена
фазовая диаграмма при а > 1. В этом случае стенка заряжается положительно,
и картинка существенно усложняется. Мы рассмотрим простейших случай, когда
энергия ионов достаточно велика, и все они достигают поверхности ТТ и там
рекомбинируют. Кроме того, потенциал в объёме слоя изменяется монотонно от нуля
по Фр = Uad > 0. Слои с такими свойствами будем называть "антидебаевскими"
(АДС). Нетрудно понять, почему при а > 1 (в АДС-режиме с монотонным ходом
потенциала) имеются также три потока электронов. Наряду с двумя потоками I и III,
которые были при а < 1, здесь появляется поток медленных вторичных электронов,
возвращающийся на положительно заряженную поверхность ТТ.
Рис. 7.3.2. Фазовые диаграммы динамики частиц: при а < 1 (а) и а > 1 (б)
Расчёт как ДС, так и АДС в стационарном режиме может быть произведен
по схеме, описанной в разделе 4.3. А именно, зная функции распределения ионов
и электронов, выходящих из квазинейтральной плазмы (рис. 7.3.2). В случае а < 1
считаем известными три функции
fi(v,X0), fe\(v,X0),
G.3.6а)
и по формулам D.3.6) сразу получаем зависимости этих функций от v и ф во всем
объёме слоя:
/г(у,ф), /ei(e,0), Ыу,Ф). G.3.66)
Зная зависимости первого потока на стенке от v
fe\(v,UD)
376
Гл. 7. Взаимодействие плазмы с поверхностями твёрдых тел
и оператор рассеяния S(v\v\), находим функцию распределения электронов (группа
3), идущих от стенки _
/еЗ = Sfe\(v,UD),
а тем самым и зависимость /e3(v, ф). Так будет в случае а < 1. Если же <т > 1, то
идущий от стенки расщепляется на два /ез и fey, первый из них покидает слой при
х = хо, а второй возвращается на стенку. Очевидно, раздел этих потоков происходит
при
mv
Определив все функции /е, в том числе и /г(у,ф), мы можем вычислить плотность
заряженных частиц и написать уравнение Пуассона
G.3.7)
dx2
и, соответственно с тем, что было сказано в разделе 4.3, найти зависимость ф от х
и трех постоянных С\, С^ и пристеночного скачка Ud
G.3.8)
U=o = 0. G.3.9)
Эти постоянные определяются граничными условиями
ф(х0) = 0; ф'(хо) = О; jin + ^ie
Мы не будем приводить конкретных расчётов ф(х) и определение Ujj. Это, как
правило, весьма громоздкие выкладки, требующие к тому же привлечения компью-
тера.
Примеры результатов расчётов п(х) и ф(х) при малых и больших Те приведены
на рисунках 7.3.3 и 7.3.4.
Рис. 7.3.3. Распределение плотности элек-
тронов в пристеночном слое: при а < 1
(кривые 1, 2, 3) и при а > 1 (кривые 4, 5)
Рис. 7.3.4. Распределение потенциала
плазмы в пристеночном слое: при а < 1
(кривые 1, 2, 3) и при а > 1 (кривые 4, 5)
Отметим, что в случае, если fe\(v,xo) и /ез(^, 0) — максвелловские функции
с одной и той же температурой, а а = const < 1, мы получим уравнение баланса
в традиционной форме G.3.3). Но если хотя бы одно из указанных условий не
выполнено, то уравнение баланса непосредственно не выражается через граничные
7.3. Электронные пограничные слои 377
условия, т.е. значение jin и jen и энергию частиц на границе слоя (х = хо). В этом
случае требуется полное решение сформулированной выше задачи.

Ви переглядаєте статтю (реферат): «Стационарные дебаевские слои около диэлектрических поверхностей» з дисципліни «Введення в плазмодінаміку»

Заказать диплом курсовую реферат
Реферати та публікації на інші теми: ЗАОЩАДЖЕННЯ ТА ІНВЕСТИЦІЇ В МЕХАНІЗМІ ГРОШОВОГО РИНКУ
. ВИМОГИ МІЖНАРОДНИХ СТАНДАРТІВ ДО ОКРЕМИХ ЕТАПІВ І ПРОЦЕСІВ СТВО...
СПОСОБИ РЕАЛІЗАЦІЇ ІНВЕСТИЦІЙНИХ ПРОЕКТІВ
Аналіз рентабельності роботи позичальника
Аудит вибуття запасів. Оцінка методу списання запасів


Категорія: Введення в плазмодінаміку | Додав: koljan (21.11.2013)
Переглядів: 486 | Рейтинг: 0.0/0
Всього коментарів: 0
Додавати коментарі можуть лише зареєстровані користувачі.
[ Реєстрація | Вхід ]

Онлайн замовлення

Заказать диплом курсовую реферат

Інші проекти




Діяльність здійснюється на основі свідоцтва про держреєстрацію ФОП